清华科研成果有望解决光刻机卡脖子难题 但路还很长

CNMO 【原创】 作者:蒋宇骏 2021-02-25 15:55
评论(0
分享

  【CNMO新闻】在芯片制造业中,光刻机至关重要,每颗芯片都需要经过光刻技术的锻造。荷兰阿斯麦(ASML)公司是目前世界上唯一的EUV光刻机供应商,影响着全球芯片供应。若想在这方面不被卡脖子,则需要我们国家在光刻机领域取得突破性研究成果。

  2月25日,清华大学的一项科研成果刊登在《自然》上,这篇题为《稳态微聚束原理的实验演示》的论文报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”(SSMB)的首个原理验证实验。SSMB光源的潜在应用之一就是作为未来EUV光刻机的光源。

SSMB原理验证实验示意图
SSMB原理验证实验示意图

  该实验由清华大学工程物理系唐传祥教授研究组和亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心、德国联邦物理技术研究院合作完成。唐传祥表示,基于SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题。但是,EUV光刻机的自主研发还有很长的路要走,这需要SSMB EUV光源的持续科技攻关,也需要上下游产业链的配合,才能获得真正成功。

分享:

加入收藏

网友评论 0条评论
用其他账号登录:
请稍后,数据加载中...
查看全部0条评论 >
火热围观
潮机范儿
热门搜索词

Copyright © 2007 - 北京沃德斯玛特网络科技有限责任公司.All rights reserved 发邮件给我们
京ICP证-070681号 京ICP备09081256号 京公网安备 11010502036320号 京网文[2012]0132-048号